Beschichtungstechnologien
Modernste Technologien für höchste Präzision
Elektronenstrahlverdampfung, ionenstrahlgestützte Deposition und Magnetron Sputtering
asphericons Optikfertigung bietet verschiedene Technologien zur Beschichtung von Linsen und Spiegeln. Die Art der optischen Beschichtung ist dabei abhängig von den Eigenschaften des Ausgangsmaterials und den Anforderungen an die optischen Systeme. Unsere Experten beraten Sie gern bei der Auswahl der richtigen Technologie zur Beschichtung Ihre Optiken und Systeme. Das Leistungsangebot umfasst dabei:
- Elektronenstrahlverdampfung,
- ionenstrahlgestützte Deposition und
- Magnetron Sputtering.
Elektronenstrahlverdampfung
Bei der Elektronenstrahlverdampfung (Electron Beam Evaporation, kurz EBE) werden optische Komponenten in einer Vakuumkammer durch Verdampfen eines am Boden befindlichen Materials beschichtet. Die zum Verdampfen notwendige Energie wird durch einen Elektronenstrahl generiert. Die Dampfteilchen des erhitzten Materials breiten sich im Vakuum nahezu geradlinig aus. Sie verteilen sich gleichmäßig auf der Oberfläche des oben gehalterten optischen Substrats, welches sich auf einer rotierenden Kalotte befindet.
Spezifikationen Elektronenstrahlverdampfung:
- Optische Beschichtung: dielektrische Spiegel, Antireflex- und Metallbeschichtungen
- Substratgrößen: bis zu 300 mm Durchmesser
- Spektralbereich: 190 - 5100 nm
- Fast-Lane-Beschichtung (24/48h Lieferung)
Prozess der Elektronenstrahlverdampfung:
Abbildung 1 Schematische Darstellung des Bedampfungsprozesses.
Ionenstrahlgestützte Deposition
Die ionenstrahlgestützte Deposition/Abscheidung (Ion Assisted Deposition, kurz IAD) basiert auf dem Verfahren der Elektronenstrahlverdampfung und wird für die meisten optischen Beschichtungen bei asphericon eingesetzt. Ergänzend kommt bei diesem Verfahren eine Plasmaquelle zum Einsatz, um die entstehende Schicht durch Ionenbeschuss zusätzlich zu verdichten. Die Folge sind noch härtere, stabilere Schichten.
Spezifikationen ionenstrahlgestützte Deposition:
- Optische Beschichtung: dielektrische Spiegel, Antireflexbeschichtungen
- Substratgrößen: bis zu 300 mm Durchmesser
- Spektralbereich: 190 - 5100 nm
- Sehr hohe Schichthärte und Stabilität
- Gute Thermische Leitfähigkeit
- Fast-Lane-Beschichtung (24/48h Lieferung)
Magnetron Sputtering
Beim Magnetron Sputtering (eng. für Zerstäuben) werden in einem Vakuum hochenergetische Ionen aus einem AR-Plasma erzeugt, welche gezielt gegen ein Festkörper-Target gestoßen werden. Dies gelingt durch die Anlegung eines elektrischen Feldes. Als Folge werden Ionen und Atome aus dem Target herausgeschlagen und durch das elektrische Feld in Richtung des Substrats beschleunigt. Die Atome und Ionen des Targets legen sich auf das (bei asphericon) oben gehalterte Substrat ab („Sputter-up“) und bilden so eine hochwertige und gleichmäßige optische Beschichtung. Das Schichtwachstum kann spektroskopisch überwacht werden und sorgt somit für eine hohe Prozessstabilität und Reproduzierbarkeit.
Spezifikationen Magnetron Sputtering:
- Optische Beschichtung: dielektrische Spiegel, Antireflexbeschichtungen
- Substratgrößen: 15 mm - 250 mm
- Materialien: Glas, Quarz, Kristallen
- Spektralbereich: UV – NIR (380 - 5100 nm)
- Sehr dichte und gleichmäßige Beschichtungen
- Große Sputteraten, separat beladbare Magazinschleusen
Prozess des Magnetron Sputterings:
Abbildung 2 Schematische Darstellung des Ionenstrahl-Sputterns
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