红外镀膜
适用于各种应用的高级镀膜
用于苛刻应用的光学红外镀膜
红外波长的光学系统可以通过光学镀膜来额外增强。对三个基本功能进行了区分：
- 反射；
- 波长滤波和
- 防反射镀膜。
欲了解更多信息，请参阅我们的博客文章“高性能光学镀膜”。所有镀膜还保护光学器件的表面，即使在苛刻的环境条件下，如极端的温度波动和湿度，也能保持其光学质量。
红外镀膜的应用领域
红外辐射的应用领域是多方面的。每个传感器都受益于更多的光子和更少的干扰，因此使用光学镀膜可以获得更准确的结果光谱仪和激光雷达系统也受益于这种改进。
所有热源发射红外辐射的特性用于观察森林火灾、气候或移动物体。此外，可以通过烟雾和灰尘探测到人员或火灾。这支持了消防员和安全部队的工作。基于红外的气体分析用于医疗目的和农业（例如沼气厂）。
然而，如果没有AR膜，在高性能透镜中使用高折射IR材料是不可想象的。了解更多关于艾斯飞睿AR镀膜的信息。
红外范围的规格
红外通常指0.78μm的波长。短波近红外（Near Infrared，NIR）的范围高达1.4μm。在1到3μm之间，辐射也被称为SWIR（短波长IR），光谱的确切极限因文献而异。MWIR（中波长IR）在SWIR之后开始，并延伸到5.5μm。波长为8至14μm的光束被分配到LWIR（长IR）范围。对于红外应用，至关重要的是，光学器件的所有组件都要针对预期波长进行设计和优化。例如，熔融二氧化硅对高达并包括SWIR光谱的红外辐射是透明的，并且耐化学和热应力。
艾斯飞睿提供的红外镀膜
基于溅射工艺，艾斯飞睿为波长高达5.1μm的任何应用提供了高抗红外镀膜。这项技术使用离子从材料中提取原子，然后将原子沉积在光学器件上的薄层中形成镀膜。基于离子源，对磁控溅射法和离子束溅射法进行了区分，在磁控溅射中，氩离子通过场线轨迹聚焦到靶上，而离子束溅射使用其自己的靶离子源。通过这些方法可以形成非常稳定和均匀的镀膜，该镀膜甚至可以承受极端的环境条件。
图1：反射系数为8°和40°的非球面硅上红外镀膜的示例曲线。
图2：锗上的红外镀膜在8°和40°反射时的示例曲线。此外，艾斯飞睿为所有通用标准（DIN-、ISO-、MI-L、DO-）提供广泛的环境测试。除其他外，我们的IR涂层在附着力、防潮性和耐温性方面满足苛刻的要求。现代制造和测量技术将您的规格转化为成品。
艾斯飞睿的红外镀膜规格一览表
- 基板尺寸：最大220 mm
- 光谱范围：高达5.1μm
- 材料：玻璃、熔融二氧化硅、晶体、半金属（如锗、硅）
- 稳定性：超硬镀膜（溅射工艺）
有关各个镀膜的具体信息的曲线可以在光学涂层服务页面及下载区域找到。
