镀膜技术
实现最高精度的先进技术
电子束蒸发、离子辅助沉积和磁控溅射
艾斯飞睿为其光学产品提供了多种光学镀膜工艺技术。镀膜技术的选择取决于原材料的特性和光学系统/产品的规格。我们的专家将随时为您的光学元件和系统提供镀膜方面的建议。服务范围包括：
- 电子束蒸发
- 离子辅助沉积和
- 磁控溅射
电子束蒸发
电子束蒸发 (EBE) 是一种在真空室中通过蒸发位于底部的材料来镀膜光学元件的过程。蒸发所需的能量是由电子束产生的。被加热材料的蒸汽颗粒在真空中几乎线性地传播。当它们碰到位于旋转量热计上的蒸发室上部的光学基板表面时，它们会均匀地凝结。
规格电子束蒸发：
- 镀膜：介质镜、防反射和金属镀膜
- 基板尺寸：直径不超过300 mm
- 光谱范围：190 – 5100 nm
- 快速镀膜 (24/48小时交付)
电子束蒸发的流程：
图1：蒸发过程示意图
离子辅助沉积
离子辅助沉积是基于电子束蒸发工艺，用于艾斯飞睿的大多数光学镀膜。此外，在该镀膜过程中使用等离子体源，以通过离子轰击来额外致密所得到的层，结果是形成了一个更加坚硬、更加稳定的层。
离子辅助沉积的规格：
- 镀膜：介质镜、防反射镀膜
- 基板尺寸：最大直径300 mm
- 光谱范围： 190 - 5100 nm
- 非常高的镀膜硬度和稳定性
- 良好的导热性
- 快速通道镀膜 (24/48小时交付)
磁控溅射
在磁控溅射中，高能离子在真空中由AR等离子体产生，直接推压到固态靶上。这是通过施加电场来实现的。结果，离子和原子被从靶中敲除，并通过电场在衬底的方向上加速。靶的原子和离子沉积在顶部安装的基板上（“溅射”），从而形成高质量、均匀的光学镀膜。可以用光谱法监测层生长，从而确保高工艺稳定性和再现性。
磁控溅射的规格：
- 镀膜：介质镜、防反射镀膜
- 基板尺寸：15 mm - 250 mm
- 材料：玻璃、石英、水晶
- 光谱范围： 紫外-近红外 (380 - 5100 nm)
- 非常致密和均匀的镀膜
- 更高的溅射率，可单独装载的弹匣闸门
磁控溅射工艺：
图2：IBS示意图
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