UV镀膜

UV光学器件和镀膜为您的应用带来最大能量

OUV波长的光学系统通常涂有光学镀膜。可以通过以下方面区分三种基本功能:

  • 反射、
  • 防反射镀膜和
  • 波长过滤。

此外,镀膜可保护光学系统的表面,并确保即使在恶劣的环境条件下也能保持其光学质量。

光学UV辐射的特点

根据应用领域,UV波长的光学镀膜可用于执行各种任务。例如,在加工材料时,降低了激光损伤阈值和部件上的总应力。UV激光具有很高能量,通常能发射短而强的脉冲。由于波长低,使用UV光学器件时,即使是小杂质或制造精密度不足也是一个挑战。因此,具有最小公差的均匀光学镀膜对于高质量产品至关重要。

波长或脉冲持续时间越短,激光的能量越高。这导致基于ISO 21254的光学器件损伤阈值(也称为激光损伤阈值(LDT)或激光诱导损伤阈值(LIDT))更加相关。LDT或LIDT描述了光学器件的最大功率,在该功率下,统计推断不会出现损坏。然而,在主动使用中,即使不超过此限值,也不能排除损坏。特别是在UV范围内,在出现完全缺陷之前,可能发生严重磨损。这是医疗领域的一项重大额外支出。现代镀膜工艺和均质表面最大限度地减少了光学系统故障,延长了维护周期。

UV光学器件的波长和应用

UV辐射比人眼刚能看到的UV波长380nm要短。在近UV(NUV)、中(MUV)、远(FUV)和极端(EUV)光谱之间以100nm的步长递减距离,直到10nm。确切限值因文献而异。通常用于空间的另一种分类是UV-A/B/C,例如,UV-C定义为最高280nm,且臭氧层会完全将其吸收。UV-A有效地未经过滤到达地球。

EUV激光在现代半导体和显示器制造以及相关质量控制中至关重要,可以生产更小、更强大、更高效的处理器。从占据整个仓库的电脑到现代智能手机的演变,只有通过部件的不断微型化才成为可能。

技术上类似于芯片制造工艺的是表面标记。UV激光可用于此目的以及精密钻孔,因为许多材料发热低,能生产出清晰的线条。玻璃和塑料在加工过程中面临着特殊挑战-UV激光是很好的解决方案。具有VIS或IR光谱的激光不可切割这些材料或留下烧焦切口。

卫星,无论是用于观测遥远的恒星、分析风速还是地球的气候变化,都需要高质量的镀膜来探测UV线波长。尽管受到其他波长和极端环境条件的强烈干扰,但它们必须可靠地分离UV光谱,以实在库意义的测量。

UV激光是医学治疗的重要部分,尤其是对于皮肤。为确保安全使用,应特别注意皮肤的均匀光照。选择波长以匹配待治疗的组织,并可通过柔性光导用于难以到达的区域。

asphericon的UV镀膜

  • 波长范围:190 - 380nm
  • 镀膜:例如K-镀膜(355nm)、X-镀膜(230-380nm)、Y-镀膜(320-450nm)和特定波长抗反射镀膜
  • 材料:玻璃、熔融石英、晶体
  • 基底尺寸:最大直径为350mm
  • 工艺:电子束蒸发(EBE)

asphericon的UV范围的光学器件和系统

UV范围的光学系统和元件对制造质量提出了最高要求。asphericon不仅提供世界上最大的熔融石英非球面镜现货选择,而且还以最高水平的激光束整形元件(BeamTuning范围)为您提供支持。

光纤准直器a|AspheriColl 355nm能够在UV范围内实现FC/PC贴片光纤的完美光导,并可与BeamTuning和跨系统组件一起使用,以满足任何所需应用。a|BeamExpander UV由透明石英制成,允许使用Nd:YAG激光[355nm]进行光束扩展。两个光束整形镜a|TopShape和a|AiryShape确保在所有激光应用中获得最佳效果,甚至是在UV光谱中。基于非球面光学器件,该模组化元件能够将高斯激光束简单地转换成不同的平顶轮廓。球面像差可以借助BeamTuning得到校正。无焦系统实现了较大输入光束直径,而使用非球面光学器件使系统尺寸比目前市售产品缩小了50%。智能嵌入概念省去了耗时的调整,确保了灵活性和精密度。

还可以发现我们的a|FusedSilica非球面镜。这些熔融石英光学器件针对广泛的(激光)应用进行了优化,可作为测试设备的原型或光束聚焦/准直的标准组件,特别适合高激光功率和UV范围的应用。选定直径也可以作为嵌入式光学器件,并且可以很容易地与BeamTuning范围相结合。我们的跨系统适配器允许与普通非系统组件一起使用。

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