
光学镀膜
精密光学镀膜
从UV到近红外光谱范围内的高端光学镀膜,用于要求苛刻的光学组件,具有合理的发货时间和可靠的服务-这就是asphericon制造的光学透镜镀膜。我们具备市场上最先进的制造和测量技术以及经验丰富的技术人员团队,将您的想法变为现实。发现我们的光学镀膜类型。
UV、VIS和IR光学镀膜
- UV镀膜
- VIS镀膜
- 红外镀膜

UV镀膜
高功率(激光)应用光学器件
UV光学器件和镀膜在许多领域已经变得不可或缺。例如,它们用于半导体和显示器制造、卫星或激光材料加工。高能UV线正在技术、制造和研究领域创造新的应用领域。抗UV镀膜有助于在高功率激光应用中使用光学元件,并保护它们免受强烈的环境影响。
您可以在asphericon获得:
- 为您的光学器件提供个性化高质量UV镀膜,
- 系统,如UV范围的光束整形镜,以及
- 用于最低粗糙度值的高功率激光应用的在库UV光学器件。

VIS镀膜
可见光应用的镀膜解决方案
VIS是可见光谱的简称,包括人眼在没有辅助设备的情况下可以感知的所有光学应用。例如,这种从380nm到750nm的不同光谱应用可以在日常生活、工业和光学分析中发现。这包括激光指示器和投影仪,还包括空间光谱仪和显微镜。
您可以在asphericon获得:
- 适用于光学器件的高质量VIS镀膜(例如,AR镀膜、V镀膜和滤光镀膜)
- 针对VIS范围的定制光学系统,以及
- 具有良好表面准确度的在库光学器件

红外镀膜
人眼不可见:红外镀膜,适用于高达5.1μm的应用
红外镀膜增加了光学元件的用例数量,并改进了经典IR材料,如锗和硅。asphericon提供了波长范围高达5.1μm的各种耐用稳定的IR镀膜,可以轻松承受苛刻的环境条件。
asphericon提供以下IR镀膜:
- • 带通滤光器和窄带滤光器
- 双频和三频滤光器
- 边缘滤光器(长通和短通)
- 多功能滤光器
- 防反射镀膜
- 镜片镀膜
光学镀膜规范
电子束蒸发 | 离子辅助沉积 | 磁控溅射 | |
---|---|---|---|
基底尺寸(直径) | 不超过 300 mm | 不超过 300 mm | 15 mm - 250 mm |
光谱范围 | 190 - 5100 nm | 190 - 5100 nm | 380 - 5100 nm |
稳定性 | 良好 | 非常好 | 超硬 |
残留反射 | Rabs < 0.1% (V 镀膜) | Rabs < 0.1% (V 镀膜) | Rabs < 0.1% (V镀膜) |
功能 | - | 等离子体源的使用 | 溅射技术 |
应用 | AR | ARBB, HR | ARSBB, HR, Filter |
Fast-Lane服务(24/48小时) | 可选 | 可选 | 可选 |
光学镀膜技术
根据材料独有特性和光学系统的要求,我们为您的项目选择了合适的镀膜技术。为此,可以使用电子束蒸发、离子束辅助沉积或溅射。
- 电子束蒸发
- 离子辅助沉积
- 磁控溅射
- 磁控溅射

电子束蒸发
电子束蒸发(EBE)是一种通过蒸发位于底部的材料在真空室中镀膜光学元件的工艺。蒸发所需能量由电子束产生。加热材料的蒸汽粒子在真空中几乎线性传播。当它们撞击位于旋转圆顶上的蒸发室上部光学基底表面时均匀地凝结。
- 镀膜:介质镜、抗反射和金属镀膜
- 基底尺寸:最大直径300mm
- 光谱范围:190-5100nm
- Fast-Lane镀膜(24/48小时发货)

电子束蒸发
示意图过程

离子辅助沉积
离子辅助沉积是基于电子束蒸发工艺,用于asphericon的大多数光学镀膜。此外,在此镀膜工艺中使用等离子体源,通过离子轰击来额外致密所得层。结果得到更硬、更稳定的层。
- 镀膜:介质镜、防反射镀膜
- 基底尺寸:最大直径300mm
- 光谱范围:190-5100nm
- 极高的镀膜硬度和稳定性
- 良好的导热性
- Fast-Lane镀膜(24/48小时发货)

离子辅助沉积
示意图过程

磁控溅射
在磁控溅射中,高能离子是在真空中由AR等离子体产生的,把它们直接推向固态靶。这是通过施加电场来实现。结果,离子和原子从靶中撞出,并在电场的作用下向基底方向加速。靶的原子和离子沉积在顶部嵌入式基底上(“溅射”),从而形成高质量的均匀光学镀膜。可以通过光谱监测层的生长,从而确保工艺的高稳定性和再现性。
- 镀膜:介质镜、防反射镀膜
- 基底尺寸:15 mm - 250 mm
- 材料:玻璃、石英、晶体
- 光谱范围:UV-NIR(380-5100nm)
- 非常致密和均匀的镀膜
- 更高溅射速率,可单独装载的料盒闸门

磁控溅射
示意图过程