asphericon质量的薄层。
asphericon质量的薄层。

光学镀膜

要求提供镀膜 asphericon服务

精密光学镀膜

从UV到近红外光谱范围内的高端光学镀膜，用于要求苛刻的光学组件，具有合理的发货时间和可靠的服务-这就是asphericon制造的光学透镜镀膜。我们具备市场上最先进的制造和测量技术以及经验丰富的技术人员团队，将您的想法变为现实。发现我们的光学镀膜类型。

Broadband coating and anti-reflective optical coating for laser applications

最小反射镀膜，也称为抗反射镀膜，对于最大光学透射率至关重要。根据所需应用，我们提供激光应用专用的单层镀膜、宽带镀膜和最小反射镀膜。根据玻璃类型，可以将反射降至<0.1%。

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单层镀膜 (ARES)

宽带镀膜 (ARBB)

双层镀膜 (ARDS)

超宽带镀膜 (ARSBB)

多重镀膜 (ARDD)

High-Power optical coating for different wavelength ranges absorption-free and stress minimizing

对于各种波长范围，使用介电镀膜可以产生针对反射率大于99%的各种入射角优化的无吸收、最小应力的光学镜片镀膜。

介质镜可以专门用于单波长（单次高反射或SHR）、双波长（双次高反射或DHR）和宽光谱范围（宽带高反射或BBHR）。我们的高功率镀膜针对高性能激光应用进行了优化。

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单次高反射 (SHR)/宽带高反射 (BBHR)

Metallic mirrors with a constant level of reflection - Optical coating from asphericon

金属镜可在非常宽的波长范围内提供恒定的反射水平。表面以金属（如Al、Ag或Au）为基础。通过添加介质镀膜，可以保护金属镜并提高其反射率。

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银镜 (AGM)

铝镜 (ALM)

金镜 (AUM)

高反射铝镜 (ALENHM)

asphricons spectrum of optical coating also includes filter layers

对于许多应用，各种波段可以用滤光镀膜分开。我们提供基于介质镀膜的短通和长通滤光器。
短通滤光器允许短波长通过，而将长波长反射出去。相反，长通滤光器透射长波长，而反射短波长。

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短通滤光器 (KPF)

长通滤光器 (LPF)

分光镜镀膜将入射光分为透射部分和反射部分。基于非常热稳定的介质层，我们实现了特定客户的期望分光比，通常为50%/50%（R/T）或30%/70%（R/T）。

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分光镜 (BS)

UV、VIS和IR光学镀膜

光学镀膜规范

 电子束蒸发离子辅助沉积磁控溅射
基底尺寸（直径）不超过 300 mm不超过 300 mm15 mm - 250 mm
光谱范围190 - 5100 nm190 - 5100 nm380 - 5100 nm
稳定性良好非常好超硬
残留反射Rabs < 0.1% (V 镀膜)Rabs < 0.1% (V 镀膜)Rabs < 0.1% (V镀膜)
功能-等离子体源的使用溅射技术
应用ARARBB, HRARSBB, HR, Filter
Fast-Lane服务（24/48小时）可选可选可选

光学镀膜技术

根据材料独有特性和光学系统的要求，我们为您的项目选择了合适的镀膜技术。为此，可以使用电子束蒸发、离子束辅助沉积或溅射。

  1. 电子束蒸发
  3. 离子辅助沉积
  5. 磁控溅射
  6. 磁控溅射
电子束蒸发

电子束蒸发

电子束蒸发（EBE）是一种通过蒸发位于底部的材料在真空室中镀膜光学元件的工艺。蒸发所需能量由电子束产生。加热材料的蒸汽粒子在真空中几乎线性传播。当它们撞击位于旋转圆顶上的蒸发室上部光学基底表面时均匀地凝结。

  • 镀膜：介质镜、抗反射和金属镀膜
  • 基底尺寸：最大直径300mm
  • 光谱范围：190-5100nm
  • Fast-Lane镀膜（24/48小时发货）

电子束蒸发

示意图过程

离子辅助沉积

离子辅助沉积

离子辅助沉积是基于电子束蒸发工艺，用于asphericon的大多数光学镀膜。此外，在此镀膜工艺中使用等离子体源，通过离子轰击来额外致密所得层。结果得到更硬、更稳定的层。

  • 镀膜：介质镜、防反射镀膜
  • 基底尺寸：最大直径300mm
  • 光谱范围：190-5100nm
  • 极高的镀膜硬度和稳定性
  • 良好的导热性
  • Fast-Lane镀膜（24/48小时发货）

离子辅助沉积

示意图过程

磁控溅射

磁控溅射

在磁控溅射中，高能离子是在真空中由AR等离子体产生的，把它们直接推向固态靶。这是通过施加电场来实现。结果，离子和原子从靶中撞出，并在电场的作用下向基底方向加速。靶的原子和离子沉积在顶部嵌入式基底上（“溅射”），从而形成高质量的均匀光学镀膜。可以通过光谱监测层的生长，从而确保工艺的高稳定性和再现性。

  • 镀膜：介质镜、防反射镀膜
  • 基底尺寸：15 mm - 250 mm
  • 材料：玻璃、石英、晶体
  • 光谱范围：UV-NIR（380-5100nm）
  • 非常致密和均匀的镀膜
  • 更高溅射速率，可单独装载的料盒闸门
磁控溅射

磁控溅射

示意图过程

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